位置:首页 >  知识藏馆 > 正文内容

清华大学等离子体刻蚀机采购项目公开招标,预算 165 万元

IT之家 3 月 29 日消息,3 月 29 日,清华大学发布了等离子体刻蚀机采购项目公开招标公告。

该公告显示,清华大学现对等离子体刻蚀机采购项目进行国内公开招标,欲采购 1 套等离子体刻蚀机,采购预算为 165 万元。

设备用途介绍 :

该等离子体刻蚀机用于刻蚀薄膜铌酸锂晶圆,从而加工基于薄膜铌酸锂晶圆的电光器件。

简要技术指标 :

真空系统:★分子泵抽速≥1300L / s,干泵抽速≥100m3 / h;

下电极:★满足 8 英寸样品刻蚀需要,更小样品或碎片可贴片装载;

软件和控制系统:★自主版权的软件,Windows 操作系统软件;

机台工艺能力:★主要用于刻蚀薄膜铌酸锂材料、介质材料等。

版权声明:转载此文是出于传递更多信息之目的。若有来源标注错误或侵犯了您的合法权益, 请作者持权属证明与本网联系,我们将及时更正、删除,谢谢您的支持与理解。

全球半导体之窗

全球半导体之窗专注于半导体、NAND Flash、DRAM、Mobile DRAM、SSD、平板电脑、智能手机、扩及PC等相关零组件产业,致力于提供产业市场资讯、准确行情报价、前瞻市场趋势、精辟产业数据等。